47423 Avancerede plasmaprocesser til at skræddersy materialer og
nanostrukturer
Dette kursus vil give dig hands-on erfaring med
plasmaprocessering - fra generel forståelse af plasmafysik til
anvendelse af gasfase- og overfladebehandlinger med plasmabaserede
metoder. Du vil arbejde med plasma ifm. ætsning eller
tyndfilmdeponering uden brug af computer, og du vil selv ætse i og
deponere på en prøve!
Engelsk titel:
Advanced Plasma Processes for Tailoring Materials
and Nanostructures
Kursets formål er at give de studerende generel viden om
plasmafysik med hovedvægt på plasmakilder, plasmadiagnostik og
anvendelser for materialer (tyndfilmdeponering, ionimplantering,
funktionalisering og ætsning) og nanostrukturer (vækst og forme af
nanostrukturer, nanopartikelsyntese).
Læringsmål:
En studerende, der fuldt ud har opfyldt kursets mål, vil kunne:
Anvende fire typer plasmakilder (RF, mikrobølger, DC og
atmosfærisk tryk)
Beskrive de vigtigste plasmaparametre, der anvendes
Beskrive de vigtigste plasmametoder, der anvendes til dyrkning
af nanopartikler og nanostrukturer
Sammenligne elektriske og optiske metoder, der anvendes til
plasmadiagnostik
Bruge magnetronforstøvning til aflejring af nanostrukturerede
tyndfilm
Udføre nanomønstre ved hjælp af en plasmakilde, der anvender
mikrobølger
Tilpasse overfladeegenskaber af plasmanedsænkede
ionimplantater
Funktionalisere en overflade ved atmosfæretryk plasma
Analysere de reaktive specier under plasmaætsning ved
massespektrometri
Måle plasmaparametre under magnetron sputtering
Kursusindhold:
Kurset vil give en generel forståelse af plasmaanvendelser til
materialer og nanostrukturer herunder: definition af plasma,
ioniseringsgrad, Debye længde, plasmafrekvens, hastigheds- og
fordelingsfunktioner og rumladningsformation. Elementære processer
i plasma- og transportfænomener. DC, mikrobølge- og
radiofrekvensdrevne plasmakilder, atmosfæriske plasmakilder.
Plasmadiagnostik af elektriske prober og absorptions- og
emissionsspektroskopi. Tyndfilmafsætningsmetoder ved reaktiv
magnetronforstøvning. Vækstmekanisme af tyndfilm og nanostrukturer.
Principper for nanopatterning ved reaktiv ionætsning.
Overflademodifikation af plasmanedsænkede ionimplantater. Gennemgå
radikalers betydning i plasmaassisterede nanoprocesser såsom oxid
og nitrid tyndfilm, reaktiv ætsning, molekylær stråleepitaksi,
syntese og belægning af nanopartikler.
Litteraturhenvisninger:
Lecture notes on Principles of Plasma Processing, by Prof. FF Chen
and JP Chang, University of California Los Angeles (Kluwer
Academic, 2003).
Principles of Plasma Discharges and Materials Processing, by MA
Liebermann and AJ Lichtenberg, University of California Berkeley
(John Wiley & Sons 2005).
Materials Science of Thin Films – deposition and structure, by
Milton Ohring, Stevens Institute of Technology (Academic Press
2002).
Mulighed for GRØN DYST deltagelse:
Dette kursus giver den studerende en mulighed for at lave eller
forberede et projekt som kan deltage i DTUs studenterkonference om
bæredygtighed, klimateknologi og miljø (GRØN DYST). Se mere på
http://www.groendyst.dtu.dk