2009/2010

33255 Fabrikation af mikro og nanostrukturer

Engelsk titel: 


Fabrication of Micro and Nano Structures

Sprog:


Point (ECTS )

  5

Kursustype:   

Civil- Grundlæggende kursus
Kurset udbydes under åben uddannelse


Skemaplacering:

E3A

 

Undervisningsform:

Afvekslende forelæsninger, opgaveregning, 4 timer om ugen.

Kursets varighed:

13-uger

Eksamensplacering:

E3A,   F3A 

Evalueringsform:

Eksamens varighed:

Hjælpemidler:

Bedømmelsesform:

Pointspærring:

Ønskelige forudsætninger:


Overordnede kursusmål:

Komponenter og delsystemer fremstillet ved hjælp af nano- og mikrofabrikationsmetoder indgår i en lang række moderne produkter fra airbagsensorer til processoren i en computer. Produkternes funktionalitet er kritisk afhængige af disse mikro og nano-komponenter.

Det overordnede mål med kurset er at sætte dig i stand til at udvælge relevante processer, og designe en fremstillingsprocess til siliciumbaseret mikro og nanofabrikation med anvendelse af de metoder der f.eks. bruges i DTU’s renrum, DANCHIP, samt hos en række danske virksomheder.


Læringsmål:

En studerende, der fuldt ud har opfyldt kursets mål, vil kunne:
  • Forklare princippet i de basale litografiske metoder (herunder UV-litografi, elektronstrålelitografi samt nanoimprint litografi) og deres anvendelsesområder samt begrænsninger.
  • Forklare de basale principper der anvendes ved planar processering (herunder termisk oxidation, ionimplantation, diffusion, metallisering samt våd- og tør æts).
  • Beregne relevante procesparametre (f.eks. tid, temperatur eller tryk) baseret på den underliggende teori (f.eks. termisk oxidation af silicium, ionimplantation, diffusion, rheologi, elektronspredning og vekselvirkning mellem stråling og stof).
  • Specificere detaljerede processfølger til fremstilling af mikro og nanosystemer.
  • Vælge den bedst egnede processteknologi for en given opgave under hensyn til tekniske og økonomiske overvejelser.
  • Anvende ATHENA processsimulatoren til at forudsige og optimere en silicium baseret fremstillingsproces.
  • Designe et maskesæt til UV litografi.
  • Forklare tekniske og fundamentale begrænsninger for de benyttede fremstillingsprocesser.

Kursusindhold:

I kurset gennemgås fysik, kemi og teknologi for fremstillingsprocesserne der benyttes ved mikro og nanofabrikation:
·Mønsterdannelse: UV-mikrolithografi, e-beam nanolithiografi og nano-imprint.
·Mønsteroverførsel: ætsning, lift-off
·Tynd-film processer: CVD, PVD, spin-on.
·Substrat-materialer: Silicium, silica og plast.
·Materialemodifikation: Ionimplantation og dotering – diffusion, varmebehandling.
·Bonding – sammenføjning: anodisk bonding, fusion bonding.
·Proces integration.
·Process simulering.
Som en del af kurset lærer du at bruge en moderne processimulator (ATHENA - se www.silvaco.com) der tillader dig at foretage anvancerede beregninger, og du vil lære at bruge de værktøjer hvormed maskerne til komponenterne tegnes (LEDIT).


Kursusansvarlig:

Erik Vilain Thomsen, 344, 028, (+45) 4525 5766, erik.v.thomsen@nanotech.dtu.dk  
Anders Kristensen, 344, 124, (+45) 4525 6331, anders.kristensen@nanotech.dtu.dk  
Maria Tenje, 345Ø, 156, (+45) 4525 5733, maria.tenje@nanotech.dtu.dk  

Institut:

33 Institut for Mikro- og Nanoteknologi

Tilmelding:

I CampusNet

Nøgleord:

Mikrolitografi, Nanolitografi, Tyndfilm, Silicium processering, Mikro- og nanosystemer
Sidst opdateret: 2. december, 2009