Ved kurset vil du lære de basale fysiske principper og kemiske processer bag elektronstråle- og nanoimprint litografi. Med denne viden vil du være i rustet til at anvende og optimere disse teknikker i praksis.
Kursusindhold:
Elektron stråle- og nanoimprint litografi er hver især enestående indenfor nanoteknologi, idet disse metoder gør sub 10 nm strukturer tilgængelige på waferskala. I kombination udgør disse to teknikker en stærk teknologiplatform til massefabrikation af nanosystemer.
I kurset kan følgende centrale elementer defineres:
(a) Vedrørende elektronstråle litografi: - E-beam writer; Virkemåde for de basale komponenter i et elektronstråle litografisystem (i en ”e-beam writer”): elektronkilde, elektron-optik, beam-blanker, sample-stage, pattern-generator. - Eksponering af elektronstråle resist, typer af elektronstråle resist, kritisk dose, følsomhed, kontrast. - Hvad begrænser opløsningen? Resist parametre, elektron-strålens parametre, proximity effekt. - Throughput; Beam shapes
(b) Vedrørende nanoimprint litografi: - Hvad er forskellen på nanoimprint litografi og konventionelle plastic støbeteknikker? - Nanoimprint maskiner; kritiske parametre, tryk, temperatur, vacuum, homogenitet. - Nano-rheologi; squeeze flow modeller, relevante materialeparametre - Stempel design; materialer, sammenhængen mellem mønstertæthed, mønsterhøjde og polymer tykkelse.
Litteratur::
B. Bhushat (ed.): "Handbook of Nanotechnology", Springer Verlag, 1st. ed., 2004
M.A. McCord and M.J. Rooks, "Electron Beam Lithography", in "Handbook of Microlithography, Micromachining and Microfabrication - Volume 1: Microlithography" (P. Rai-Choudhurry, ed.), SPIE Engineering Press (pp. 139-249)
L.F. Thompson, C.G. Willson, and M.J. Bowden, "Introduction to Microlithography", ACS Professional Reference Book, American Chemical Society, 1994 (chapter 2.2)
Hella-C. Scheer et al., "Nanoimprint Techniques", in "Handbook of Thin Films" (H. Nalwa, ed.), Volume 5, Academic Press, 2002 (pp. 1-60)
