At sætte den studerende i stand til: a) at kunne udnytte og vurdere de forskellige tilgængelige metoder for fremstilling af halvlederkomponenter og integrerede kredsløb. b) at blive fortrolig med det apparatur og hjælpeudstyr, som man betjener sig af ved arbejdet med ovennævnte metoder. c) på baggrund heraf at kunne udarbejde detaljerede procesfølger for fremstilling af halvlederkomponenter, integrerede halvlederkredsløb og mikrosystemer. d) at kunne evaluere de opnåede resultater og forstå sammenhængen mellem de fysiske modeller, den anvendte fremstillingsprocedure og de opnåede resultater.
Kursusindhold:
Fysik og kemi for halvlederteknologiske fremstillingsprocesser, herunder krystaldyrkning, epitaxi,tyndfilmteknik, lavtryks CVD, oxidation, diffusion, ionimplantation,ætsning, mikrofotolitografi og indkapsling samt fysisk og elektrisk evaluering af materialer.
Bemærkninger:
Kurset er en obligatorisk del af fagprofilen Mikroelektronik.
